Florencia, Italia — El artista visual y fotógrafo puertorriqueño Jay Rivera Marcano fue reconocido con el Segundo Lugar del Premio “Lorenzo il Magnifico” en la categoría de Instalación durante la XV Biennale d’Arte Contemporanea di Firenze, un destacado encuentro internacional realizado en la Fortezza da Basso bajo el patrocinio de la UNESCO (Comisión Italiana), el Parlamento Europeo, el Ministerio Italiano de Cultura y Turismo, la Región de la Toscana y el Municipio de Florencia.
La edición reunió a más de 550 artistas de 84 países y recibió más de 21,000 espectadores. La Bienal también celebró a grandes figuras del arte y el diseño: Tim Burton, galardonado con el Premio a la Trayectoria, y Patricia Urquiola, distinguida con el Premio Internacional “Leonardo da Vinci”.
Rivera Marcano presentó In Tenebrae Cimarronis, una instalación inmersiva de más de tres metros de altura compuesta por negativos fotográficos suspendidos, materialidad fílmica y símbolos espirituales afropuertorriqueños. La obra invita al espectador a descubrir cómo la luz solo se revela a través de la sombra, generando una experiencia íntima de búsqueda y revelación.
La propuesta incorporó además un elemento tecnológico innovador: los visitantes podían observar la composición positiva final mediante un dispositivo digital interactivo, que revelaba en tiempo real la interacción entre luz, sombra y materialidad. Este mecanismo transformó la experiencia en un proceso activo de descubrimiento, convirtiendo la pieza en una de las más comentadas de la exhibición.
El jurado destacó la instalación por su innovación técnica, su profundidad conceptual y su impacto poético y político, subrayando la solidez de su lenguaje visual y su diálogo con temáticas de memoria, espiritualidad y resistencia.
Un poco más sobre Jay Rivera Marcano…
Jay Rivera Marcano (n. 1998) es un fotógrafo puertorriqueño cuya obra se centra en la identidad cultural de Puerto Rico y en las relaciones entre tradición, historia y contexto social. Su trabajo examina de forma visual temas vinculados al legado colonial, la pertenencia y la experiencia cotidiana en la isla.
En los últimos cinco años, Rivera Marcano ha participado en múltiples exposiciones colectivas. Su serie Bamboula: Resistencia y Libertad obtuvo una mención honorífica en el PX3 – Prix de la Photographie Paris (2024), reconocimiento internacional que destaca la relevancia de este proyecto en torno a la resistencia y la búsqueda de libertad.
En Puerto Rico, sus retratos se caracterizan por documentar historias relacionadas con comunidades, prácticas culturales y vínculos territoriales. Su obra forma parte de colecciones privadas tanto en el país como en el extranjero.
